XRnanotechフレネルゾーンプレート等

XRnanotech 社概要

XRnanotech 社は、世界的に有名なスイスのポール・シェラー研究所の10年以上にわたる研究開発の集大成として、X線光学における最新の画期的なイノベーションを市場に投入することを目的に2020年に設立されました。

 

同社のビジョンは、世界中のX線機器がその潜在能力を最大限に発揮できるようにすることであり、解像度・効率・安定性・設計において、最高品質を実現する最も革新的なX線光学系を開発し、製造することが使命です。

製品紹介Product introduction

フレネルゾーンプレート

概要

 

– 高アスペクト比のフレネルゾーンプレート

– 最高の解像度

– 幅広いエネルギー範囲 (50 eV – 20 keV) にわたって優れた効率を実現

– 材料選択の自由度が抜群 (Au、Ni、Si、SiO2、Ir、Cr、ダイヤモンド)

解像度テストサンプル

概要

 

– さまざまな標準解像度テストパターン

– 材料の選択肢: Au、SiO2

– お客様のニーズに合わせてカスタマイズ可能

3Dナノ構造

概要

 

– 3D ナノプリンティングにより、ユニークなナノ構造を実現

– 材料: ポリマー (C14 H18 O7、密度: 1.2 g/cm3)

– カスタム設計構造が可能

 

考えられる用途:

・ Be CRL の位相補正プレート

・トモグラフィーの解像度テストパターンとしての 3D シーメンススター

・キノフォームレンズ および レンズアレイ

窒化シリコン薄膜

概要

 

– 低応力のシリコン窒化膜

– すぐに出荷可能な標準膜とカスタムメイドの膜

– MEMS、フォトニクス、ナノスケール研究など、幅広い用途に適合

– 特定のプロジェクト要件に対応するために、さまざまな寸法で利用可能

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